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Plasma characterization and modelling for c-Si solar cells thin film deposition

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Produktnummer: 181702a503375649bc9b34ec0454759c94
Produktinformationen "Plasma characterization and modelling for c-Si solar cells thin film deposition"
In this work, plasmas produced during thin film deposition are characterized. Optical emission spectroscopy (OES) is used to extract the plasma parameters in a silane and ammonia gas mixture. The coupling of OES results with a global plasma model allowed us to calculate the different species densities. Finally, the deposited silicon nitride properties are related to the plasma characterization results.

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