Design for Manufacturability with Advanced Lithography
Produktnummer:
1856824acdeca749ed8f1030a7990858ed
| Autor: | Pan, David Z. Yu, Bei |
|---|---|
| Themengebiete: | Design for Manufacturability Design for Manufacturability and Yield Electron beam lithography Multiple patterning lithography Nano-CMOS Design for Manufacturability Triple Patterning Lithography |
| Veröffentlichungsdatum: | 23.08.2016 |
| EAN: | 9783319373935 |
| Sprache: | Englisch |
| Seitenzahl: | 164 |
| Produktart: | Kartoniert / Broschiert |
| Verlag: | Springer International Publishing |
Produktinformationen "Design for Manufacturability with Advanced Lithography"
This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.
Sie möchten lieber vor Ort einkaufen?
Sie haben Fragen zu diesem oder anderen Produkten oder möchten einfach gerne analog im Laden stöbern? Wir sind gerne für Sie da und beraten Sie auch telefonisch.
Juristische Fachbuchhandlung
Georg Blendl
Parcellistraße 5 (Maxburg)
8033 München
Montag - Freitag: 8:15 -18 Uhr
Samstags geschlossen